Тиглица за монокристални силицијум

Ветек Семицондуцтор Цруцибле за монокристални силицијум је од суштинског значаја за постизање раста монокристала, камен темељац производње полупроводничких уређаја. Ови лончићи су пажљиво дизајнирани да испуне ригорозне стандарде индустрије полупроводника, обезбеђујући врхунске перформансе и ефикасност у свим применама. У Ветек Семицондуцтор-у, посвећени смо производњи и испоруци лончића високих перформанси за раст кристала који комбинују квалитет са економичношћу.

Пошаљи упит

Опис производа

У ЦЗ (Цзоцхралски) методи, појединачни кристал се узгаја довођењем монокристалног семена у контакт са растопљеним поликристалним силицијумом. Семе се постепено повлачи нагоре док се полако ротира. У овом процесу се користи значајан број графитних делова, што га чини методом која користи највећу количину графитних компоненти у производњи силицијумских полупроводника.

Слика испод даје шематски приказ силицијумске пећи за производњу монокристала засновану на ЦЗ методи.

Ветек Семицондуцтор'с Цруцибле за монокристални силицијум обезбеђује стабилно и контролисано окружење кључно за прецизно формирање полупроводничких кристала. Они су инструментални у узгоју монокристалних силицијумских ингота користећи напредне технике као што су Цзоцхралски процес и методе флоат зоне, које су од виталног значаја за производњу висококвалитетних материјала за електронске уређаје.

Дизајнирани за изванредну термичку стабилност, отпорност на хемијску корозију и минимално термичко ширење, ови лончићи осигуравају издржљивост и робусност. Дизајнирани су да издрже оштра хемијска окружења без угрожавања структуралног интегритета или перформанси, чиме се продужава животни век лонца и одржава конзистентан учинак током дуже употребе.

Јединствени састав Ветек Семицондуцтор Цруциблес за монокристални силицијум омогућава им да издрже екстремне услове високотемпературне обраде. Ово гарантује изузетну термичку стабилност и чистоћу, који су критични за обраду полупроводника. Композиција такође олакшава ефикасан пренос топлоте, промовишући уједначену кристализацију и минимизирајући топлотне градијенте унутар силицијумског растопа.

Предности нашег СиЦ Цоатинг Сусцептор:

Заштита основног материјала: ЦВД СиЦ премаз делује као заштитни слој током епитаксијалног процеса, ефикасно штити основни материјал од ерозије и оштећења изазваних спољашњим окружењем. Ова заштитна мера у великој мери продужава радни век опреме.

Одлична топлотна проводљивост: Наш ЦВД СиЦ премаз поседује изванредну топлотну проводљивост, ефикасно преноси топлоту са основног материјала на површину премаза. Ово побољшава ефикасност управљања топлотом током епитаксије, обезбеђујући оптималне радне температуре за опрему.

Побољшан квалитет филма: ЦВД СиЦ премаз обезбеђује равну и уједначену површину, стварајући идеалну основу за раст филма. Смањује дефекте који су резултат неусклађености решетке, побољшава кристалност и квалитет епитаксијалног филма и на крају побољшава његове перформансе и поузданост.

Изаберите наш СиЦ Цоатинг Сусцептор за потребе производње епитаксијалне плочице и искористите побољшану заштиту, супериорну топлотну проводљивост и побољшани квалитет филма. Верујте ВеТек Семицондуцтор-овим иновативним решењима за ваш успех у индустрији полупроводника.