ЦВД ТаЦ Цоатинг Цруцибле

ВеТек Семицондуцтор је професионални произвођач и лидер ЦВД ТаЦ Цоатинг Цруцибле производа у Кини. ЦВД ТаЦ Цоатинг Цруцибле је заснован на премазу од танталног угљеника (ТаЦ). Превлака од тантала је равномерно прекривена на површини лончића кроз процес хемијског таложења паре (ЦВД) како би се побољшала отпорност на топлоту и отпорност на корозију. То је материјални алат који се посебно користи у екстремним окружењима високих температура. Добродошли на ваше даље консултације.

Пошаљи упит

Опис производа

ТаЦ Цоатинг Ротатион Сусцептор игра кључну улогу у процесима таложења на високим температурама као што су ЦВД и МБЕ, и важна је компонента за обраду плочица у производњи полупроводника. међу њима,ТаЦ Цоатингима одличну отпорност на високе температуре, отпорност на корозију и хемијску стабилност, што обезбеђује високу прецизност и висок квалитет током обраде вафла.

ЦВД ТаЦ Цоатинг Цруцибле се обично састоји од ТаЦ премаза играфитсупстрат. Међу њима, ТаЦ је керамички материјал високе тачке топљења са тачком топљења до 3880°Ц. Има изузетно високу тврдоћу (Вицкерс тврдоћа до 2000 ХВ), отпорност на хемијску корозију и јаку отпорност на оксидацију. Стога је ТаЦ премаз одличан материјал отпоран на високе температуре у технологији обраде полупроводника.

Графитна подлога има добру топлотну проводљивост (топлотна проводљивост је око 21 В/м·К) и одличну механичку стабилност. Ова карактеристика одређује да графит постаје идеалан премазсупстрат.

ЦВД ТаЦ Цоатинг Цруцибле се углавном користи у следећим технологијама обраде полупроводника:

Производња вафла: ВеТек Семицондуцтор ЦВД ТаЦ Цоатинг Цруцибле има одличну отпорност на високе температуре (тачка топљења до 3880°Ц) и отпорност на корозију, тако да се често користи у кључним процесима производње плочица као што су високотемпературно таложење паре (ЦВД) и епитаксијални раст. У комбинацији са одличном структурном стабилношћу производа у окружењима са ултра високим температурама, осигурава да опрема може стабилно радити дуго времена у екстремно тешким условима, чиме се ефективно побољшава ефикасност производње и квалитет вафла.

Процес епитаксијалног раста: У епитаксијалним процесима као нпрхемијско таложење паре (ЦВД)и епитаксија молекуларним снопом (МБЕ), ЦВД ТаЦ Цоатинг Цруцибле игра кључну улогу у ношењу. Његов ТаЦ премаз не само да може да одржи високу чистоћу материјала под екстремном температуром и корозивном атмосфером, већ и ефикасно спречи контаминацију реактаната на материјалу и корозију реактора, обезбеђујући тачност производног процеса и конзистентност производа.

Као водећи кинески произвођач и лидер ЦВД ТаЦ Цоатинг Цруцибле, ВеТек Семицондуцтор може да пружи прилагођене производе и техничке услуге у складу са захтевима ваше опреме и процеса. Искрено се надамо да ћемо постати ваш дугорочни партнер у Кини.

Тантал карбид (ТаЦ) премаз на микроскопском попречном пресеку：

Tantalum carbide (TaC) coating on a microscopic cross-section 1

Физичка својства ТаЦ превлаке：

Физичка својства ТаЦ превлаке
Густина	14,3 (г/цм³)
Специфична емисивност	0.3
Коефицијент топлотног ширења	6,3*10-6/К
Тврдоћа (ХК)	2000 ХК
Отпор	1×10-5 Охм*цм
Термичка стабилност	<2500℃
Промена величине графита	-10~-20ум
Дебљина премаза	≥20ум типична вредност (35ум±10ум)