Шта је премаз од тантал карбида?

Тантал карбид (ТаЦ) керамички материјал има тачку топљења до 3880 ℃ и је једињење са високом тачком топљења и добром хемијском стабилношћу. Може да одржи стабилне перформансе у окружењима са високим температурама. Поред тога, такође има отпорност на високе температуре, отпорност на хемијску корозију и добру хемијску и механичку компатибилност са угљеничним материјалима, што га чини идеалним заштитним материјалом за графитну подлогу. 

Премаз тантал карбида може ефикасно заштитити графитне компоненте од утицаја врућег амонијака, водоника, силицијумске паре и растопљеног метала у тешким условима употребе, значајно продужавајући животни век графитних компоненти и сузбијајући миграцију нечистоћа у графиту, обезбеђујући квалитетепитаксијалнеираст кристала.

Слика 1. Уобичајене компоненте обложене тантал карбидом

Хемијско таложење паре (ЦВД) је најзрелија и оптимална метода за производњу ТаЦ премаза на графитним површинама.

Коришћењем ТаЦл5 и пропилена као извора угљеника и тантала, и аргона као гаса носача, испарена ТаЦл5 пара на високој температури се уводи у реакциону комору. На циљној температури и притиску, пара материјала прекурсора се адсорбује на површини графита, пролазећи кроз низ сложених хемијских реакција као што су разлагање и комбинација извора угљеника и тантала, као и низ површинских реакција као што су дифузија и десорпција нуспроизводи прекурсора. Коначно, на површини графита се формира густ заштитни слој који штити графит од стабилног постојања у екстремним условима животне средине и значајно проширује сценарије примене графитних материјала.

Слика 2.Принцип процеса хемијског таложења паре (ЦВД).

ВеТек Семицондуцторуглавном обезбеђује производе од тантал карбида: ТаЦ водећи прстен, ТаЦ обложен прстен са три латице, ТаЦ премаз за лонац, ТаЦ премаз порозни графит који се широко користи је процес раста СиЦ кристала; Порозни графит са ТаЦ премазом, ТаЦ обложен водећи прстен, ТаЦ обложен графитни носач вафла, ТаЦ превлаке, планетарни пријемници, сателитски пријемници обложени ТаЦ, а ови производи премаза од тантал карбида се широко користе уПроцес епитаксије СиЦиПроцес раста СиЦ монокристала.

Слика 3.ВеТек Семицондуцтор'с најпопуларнији производи премаза од тантал карбида