Глава за туширање од силицијум карбида

ВеТек Семицондуцтор је водећи произвођач и добављач производа за туш главе од силицијум карбида у Кини. СиЦ туш глава има одличну толеранцију на високе температуре, хемијску стабилност, топлотну проводљивост и добре перформансе дистрибуције гаса, што може постићи уједначену дистрибуцију гаса и побољшати квалитет филма. Због тога се обично користи у процесима на високим температурама као што су хемијско таложење паре (ЦВД) или физичко таложење паре (ПВД). Добродошли на ваше даље консултације.

Пошаљи упит

Опис производа

ВеТек Семицондуцтор Силицон Царбиде туш глава је углавном направљена од СиЦ. У обради полупроводника, главна функција главе туша од силицијум карбида је равномерна дистрибуција реакционог гаса како би се обезбедило формирање униформног филма токомхемијско таложење паре (ЦВД)илифизичко таложење паре (ПВД)процеса. Због одличних својстава СиЦ-а као што су висока топлотна проводљивост и хемијска стабилност, СиЦ туш глава може ефикасно да ради на високим температурама, смањујући неравномерност протока гаса токомпроцес депозиције, и тиме побољшати квалитет слоја филма.

Глава за туширање од силицијум-карбида може равномерно расподелити реакциони гас кроз више млазница са истим отвором, обезбедити равномеран проток гаса, избећи локалне концентрације које су превисоке или прениске, и на тај начин побољшати квалитет филма. У комбинацији са одличном отпорношћу на високе температуре и хемијском стабилношћуЦВД СиЦ, не ослобађају се честице или загађивачи токомпроцес наношења филма, што је кључно за одржавање чистоће таложења филма.

Поред тога, још једна велика предност ЦВД СиЦ туш главе је њена отпорност на термичку деформацију. Ова карактеристика обезбеђује да компонента може да одржи физичку структурну стабилност чак и у окружењима са високим температурама типичним за процесе хемијског таложења паре (ЦВД) или физичког таложења паре (ПВД). Стабилност минимизира ризик од неусклађености или механичког квара, чиме се побољшава поузданост и радни век целог уређаја.

Као водећи кинески произвођач и добављач туш глава од силицијум карбида. Највећа предност ВеТек Семицондуцтор ЦВД главе за туширање од силицијум карбида је могућност пружања прилагођених производа и техничких услуга. Предност наше прилагођене услуге може задовољити различите захтеве различитих купаца за завршну обраду површине. Конкретно, подржава префињено прилагођавање зрелих технологија обраде и чишћења током процеса производње.

Поред тога, унутрашњи зид пора ВеТек Семицондуцтор Силицон Царбиде туш главе је пажљиво обрађен како би се осигурало да нема слоја заосталих оштећења, побољшавајући укупне перформансе у екстремним условима. Поред тога, наша ЦВД СиЦ глава за туширање може да постигне минимални отвор бленде од 0,2 мм, чиме се постиже одлична тачност испоруке гаса и одржава оптимални проток гаса и ефекти таложења танког филма током производње полупроводника.

СЕМ ДАТА ОФЦВД СИЦ ФИЛМ КРИСТАЛНА СТРУКТУРА：

CVD SIC FILM CRYSTAL STRUCTURE

Основна физичка својства КВБ СиЦ Цоатинг：

Основна физичка својства ЦВД СиЦ превлаке
Имовина	Типична вредност
Цристал Струцтуре	ФЦЦ β фаза поликристална, углавном (111) оријентисана
Густина	3,21 г/цм³
Тврдоћа	2500 Вицкерс тврдоћа (500г оптерећење)
Величина зрна	2~10μм
Хемијска чистоћа	99,99995%
Хеат Цапацити	640 Ј·кг^-1·К^-1
Сублиматион Температуре	2700℃
Флекурал Стренгтх	415 МПа РТ 4 тачке
Иоунгов модул	430 Гпа 4пт кривина, 1300 ℃
Тхермал Цондуцтивити	300В·м^-1·К^-1
Термичка експанзија (ЦТЕ)	4,5×10^-6K^-1