- English
- Español
- Português
- русский
- Français
- 日本語
- Deutsch
- tiếng Việt
- Italiano
- Nederlands
- ภาษาไทย
- Polski
- 한국어
- Svenska
- magyar
- Malay
- বাংলা ভাষার
- Dansk
- Suomi
- हिन्दी
- Pilipino
- Türkçe
- Gaeilge
- العربية
- Indonesia
- Norsk
- تمل
- český
- ελληνικά
- український
- Javanese
- فارسی
- தமிழ்
- తెలుగు
- नेपाली
- Burmese
- български
- ລາວ
- Latine
- Қазақша
- Euskal
- Azərbaycan
- Slovenský jazyk
- Македонски
- Lietuvos
- Eesti Keel
- Română
- Slovenski
- मराठी
- Srpski језик
Вести
Дијамант - будућа звезда полупроводника
Дијамант, потенцијални "крајњи полупроводник" четврте генерације, привлачи пажњу у полупроводничким супстратима због своје изузетне тврдоће, топлотне проводљивости и електричних својстава. Иако високи трошкови и изазови у производњи ограничавају његову употребу, ЦВД је пожељна метода. Упркос допингу......
Опширније
Која је разлика између апликација силицијум карбида (СиЦ) и галијум нитрида (ГаН)? - ВеТек Семицондуцтор
СиЦ и ГаН су полупроводници са широким појасом са предностима у односу на силицијум, као што су већи напони пробоја, веће брзине пребацивања и супериорна ефикасност. СиЦ је бољи за апликације високог напона и велике снаге због своје веће топлотне проводљивости, док ГаН истиче у високофреквентним апл......
Опширније
Принципи и технологија физичког таложења паре (ПВД) премаза (2/2) - ВеТек Семицондуцтор
Испаравање електронским снопом је високо ефикасна и широко коришћена метода премаза у поређењу са отпорним загревањем, које загрева материјал за испаравање помоћу снопа електрона, што доводи до његовог испаравања и кондензације у танак филм.
Опширније
Принципи и технологија премаза за физичко таложење паре (1/2) - ВеТек Семицондуцтор
Вакумско облагање укључује испаравање филмског материјала, вакуум транспорт и раст танког филма. Према различитим методама испаравања филмског материјала и процесима транспорта, вакуумско премазивање се може поделити у две категорије: ПВД и ЦВД.
Опширније
