Шта је ЦВД ТАЦ премаз?

Као што сви знамо,ТаЦима тачку топљења до 3880°Ц, високу механичку чврстоћу, тврдоћу, отпорност на топлотни удар; добра хемијска инертност и термичка стабилност на амонијак, водоник, паре које садрже силицијум на високим температурама.

ЦВД ТАЦ премаз, хемијско таложење паре (ЦВД) офпремаз од тантал карбида (ТаЦ)., је процес за формирање високо густог и издржљивог премаза на подлози (обично графит). Ова метода укључује наношење ТаЦ на површину подлоге на високим температурама, што резултира премазом са одличном термичком стабилношћу и хемијском отпорношћу.

Главне предности ЦВД ТаЦ премаза укључују:

Изузетно висока термичка стабилност: може издржати температуре веће од 2200°Ц.

Хемијска отпорност: може ефикасно да се одупре јаким хемикалијама као што су водоник, амонијак и силицијумска пара.

Јака адхезија: обезбеђује дуготрајну заштиту без раслојавања.

Висока чистоћа: минимизира нечистоће, што га чини идеалним за примене у полупроводницима.

Ови премази су посебно погодни за окружења која захтевају високу издржљивост и отпорност на екстремне услове, као што су производња полупроводника и индустријски процеси на високим температурама.

У индустријској производњи, графит (композит угљеник-угљеник) материјали обложени ТаЦ премазом ће врло вероватно заменити традиционални графит високе чистоће, пБН превлаке, делове СиЦ премаза итд. Поред тога, у области ваздухопловства, ТаЦ има велики потенцијал да може се користити као високотемпературни антиоксидацијски и антиаблацијски премаз и има широке изгледе за примену. Међутим, још увек постоје многи изазови да се постигне припрема густог, уједначеног, нељуштивог ТаЦ премаза на површини графита и промовише индустријску масовну производњу.

У овом процесу, истраживање заштитног механизма премаза, иновирање производног процеса и такмичење са највишим страним нивоом су кључни за раст и епитаксију полупроводничких кристала треће генерације.