СиЦ премаз АЛД суцептор

ВеТек СемицондуцторСиЦ премаз АЛД суцепторигра виталну улогу у таложењу атомског слоја (АЛД) процес. Његова прецизна контрола температуре, уједначена дистрибуција гаса, висока хемијска отпорност и одлична топлотна проводљивост осигуравају уједначеност и висок квалитет процеса наношења филма. Ако желите да сазнате више, можете нас одмах консултовати и ми ћемо вам одговорити на време!

Прецизна контрола температуре:

СиЦ премаз АЛД пријемник обично има систем за контролу температуре високе прецизности. У стању је да одржи уједначену температуру током целог процеса таложења, што је кључно за обезбеђивање уједначености и квалитета филма.

Равномерна дистрибуција гаса:

Оптимизовани дизајн АЛД суцептора са СиЦ премазом обезбеђује уједначену дистрибуцију гаса током процеса таложења АЛД. Његова структура обично укључује више ротирајућих или покретних делова како би се промовисала униформна покривеност реактивних гасова преко целе површине плочице.

Висока хемијска отпорност:

Пошто АЛД процес укључује различите хемијске гасове, СиЦ премаз АЛД сусцептор је обично направљен од материјала отпорних на корозију (као што су платина, керамика или кварц високе чистоће) да би се одупрли ерозији хемијских гасова и утицају окружења високе температуре.

Одлична топлотна проводљивост:

Да би ефикасно спровели топлоту и одржали стабилну температуру таложења, АЛД пријемници са СиЦ премазом обично користе материјале високе топлотне проводљивости. Ово помаже у избегавању локалног прегревања и неуједначеног таложења.

Основна физичка својства ЦВД СиЦ превлаке:

Производне радње:

Преглед ланца индустрије епитаксије полупроводничких чипова：